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使用組合透鏡系統(tǒng)對(duì)物體成像，實(shí)現(xiàn)加電時(shí)液晶透鏡區(qū)域清晰，具有大視場(chǎng)、局部高分辨率的效果。本文通過實(shí)驗(yàn)測(cè)量分析模組光圈與液晶透鏡匹配、液晶透鏡位置等對(duì)于成像質(zhì)量的影響。研究方向：液晶透鏡成像系統(tǒng)測(cè)試目的：展示成像系統(tǒng)對(duì)于局部區(qū)域的清晰成像效果，測(cè)量不同位置、不同光圈下成像系統(tǒng)的MTF，分析其對(duì)于成像質(zhì)量的影響。測(cè)試設(shè)備:相機(jī)、鏡頭、函數(shù)發(fā)生器、功率放大器ATA-24組合透鏡系統(tǒng)放大器型號(hào):AigtekATA-242實(shí)驗(yàn)過程：1.實(shí)驗(yàn)室制備液晶透鏡，并通過干涉法獲取波前信息，分析得到zernike系數(shù)，得到液晶透鏡的性能參數(shù)，以選擇合適的驅(qū)動(dòng)電壓；組裝成像系統(tǒng)，對(duì)不同區(qū)域的物體進(jìn)行成像實(shí)驗(yàn)；使用ISO12233板對(duì)成像系統(tǒng)進(jìn)行對(duì)焦測(cè)試，測(cè)試不同光圈、不同液晶透鏡位置的MTF值。低功耗、高速度、高集成度的LSI電路是成眾多電子產(chǎn)品的要考慮，這也就導(dǎo)致裝置比以往任何時(shí)候更容易受到電磁干擾的威脅。此外，大功率家電及辦公自動(dòng)化設(shè)備的增多，以及移動(dòng)通信、無線網(wǎng)絡(luò)的廣泛應(yīng)用等，又大大增加了電磁騷擾源。這些變化迫使人們把電磁兼容作為重要的問題加以關(guān)注。電磁兼容采用一定的手段，使同一電磁環(huán)境中的各種電子、電氣設(shè)備都能正常工作，并且不干擾其他設(shè)備的正常工作，這就是電磁兼容（ElectromagneticComatibility，縮寫為EMC)。
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